硅基浅结/超浅结晶圆激光快速退火系统

产品介绍

晶圆获得极浅的原始杂质离子注入后，采用激光瞬间退火来激活杂质，并精确控制注入离子的峰值深度，保证注入杂质不发生明显的扩散再分布，获得合格的超浅结源漏区。